• Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.
  • +7 (383) 332-82-54

При обработке алмазов, метод фемтосекундной модификации позволяет реализовать поверхностную абляцию и графитизацию, а также графитизацию в объеме. Абляция материала с поверхности образца происходит при достижении определенного порогового значения плотности энергии ~ 1-10 Дж/см2 , зависящей от типа алмаза. При меньшем значении (~ 0.1-1 Дж/см2) реализуется процесс графитизации с образованием областей с повышенным коэффициентом поглощения видимого излучения. При объемной модификации алмазов также реализуется процесс графитизации, но при гораздо большем значении плотности энергии ~ 10-50 Дж/см2, что связано с отсутствием «свободной» границы материала. В ходе работы с алмазными образцами, в рамках совместного НИРа с одной из российских компаний, была разработана технология объемной модификации - нанесения логотипа на глубине 20 мкм от поверхности алмаза. Параметры модификации следующие: ширина линии 2 мкм, протяженность в продольном направлении 3-11 мкм.

Изображение логотипа под поверхностью алмаза на глубине 20 мкм. Ширина линии составляет 2 мкм. Продольный размер модификации колеблется от 3 до 11 мкм.

Рис. 1. Изображение логотипа под поверхностью алмаза на глубине 20 мкм. Ширина линии составляет 2 мкм. Продольный размер модификации колеблется от 3 до 11 мкм.